KS-MSC-300*350 三靶磁控濺射鍍膜儀鐵鈷鎳合金鍍膜

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￥386000

≥1件

具體成交價以合同協議為準

型號KS-MSC-300*350
品牌其他品牌
所在地鄭州市
更新時間2026-01-15

鄭州科爍儀器設備有限公司

廠商性質生產廠家
所在地區鄭州市
實名認證已認證
產品數量12
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公司介紹主營產品

鄭州科爍儀器設備有限公司是一家專業從事實驗室設備的研發、生產及實驗室耗材銷售代理的科技型公司。公司主要產品有：PVD 系列：（磁控濺射鍍膜儀、等離子鍍膜儀、多弧離子鍍膜儀，熱蒸發鍍膜儀）CVD、PECVD 、ALD、超聲波熱解噴涂機、等離子清洗機、靜電紡絲機、勻膠機等；箱式爐、氣氛爐、管式爐、臺車爐、電弧爐、真空高溫燒結爐等。

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產品簡介在線詢價

產地	國產	加工定制	是	適用領域	科研

三靶磁控濺射鍍膜儀以三靶協同濺射技術為核心，在高真空環境中構建精準可控的等離子體沉積系統。其創新原理在于通過 100～1000Gauss 強力磁場約束電子運動軌跡，使氬氣等離子體高效轟擊三個獨立靶材，釋放的離子經電場加速后均勻沉積于基底表面。相較于單靶設備，該技術突破性解決了涂層成分固定、調控困難的痛點 —— 通過 PLC 系統精確控制各靶的濺射功率。

三靶磁控濺射鍍膜儀鐵鈷鎳合金鍍膜產品詳情

技術參數：

型號	KS-MSC-500S-RF	載樣臺參數	尺寸	φ150mm
供電電壓	AC220V,50Hz		加熱溫度	500℃
整機功率	6KW		控溫精度	±1℃
極限真空度	5x10-4Pa		轉速	1-20rpm可調
氣體流量控制器	1路200sccm Ar;	磁控濺射頭參數	數量	1個2”磁控濺射頭
真空泵	配有一套分子泵系統，抽速600L/S		冷卻方式	水冷，所需流速10L/min
真空泵	配有一套分子泵系統，抽速600L/S		水冷機規格	10L/min流速的循環水冷機
膜厚儀	石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10A	真空腔體	腔體尺寸	φ300mmX340mm H
膜厚儀	石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10A		腔體材料	不銹鋼
濺射電源	射頻電源，500W-1000W, 適用于非金屬鍍膜		觀察窗口	φ100mm
濺射電源	射頻電源，500W-1000W, 適用于非金屬鍍膜		開啟方式	上頂開式，便于更換靶材
整機重量	350kg	整機尺寸	1090mmX900mmX1250mm

1. 多維參數可控

設備采用相位可控的高功率脈沖技術，不僅使靶材離化率提升 3 倍以上，更能通過調節離子能量（0V~1000V 偏壓）與入射角度，精準控制薄膜晶體結構、界面結合力與致密性。搭配 **≤1×10?2Pa 高真空本底 ** 與室溫 - 800℃可調基底加熱系統，可制備出無針孔、晶粒均勻的高性能薄膜，膜厚均勻性誤差控制在 ±3% 以內。

2. 三靶靈活配置，研發效率倍增

集成三個標準靶位（標配Ф50mm Au/Ag/Pt 貴金屬靶，支持異質靶材定制），無需破真空即可快速切換沉積模式：既能依次濺射形成多層功能膜，也能共濺射制備成分漸變的復合材料。例如在光電材料研發中，可通過調節 Ti、Si、N 靶功率比，實現 TiSiN 抗氧化薄膜的性能優化，較傳統單靶方案縮短研發周期 60%。

3. 智能系統加持，操作安全可靠

搭載全自動 PLC 控制系統與循環水冷系統，可一鍵完成預濺射（3min~30min）、沉積等流程，實時監控真空度、氣體流量（5Sccm~100Sccm）等關鍵參數。設備采用閉合磁場設計減少電子損耗，配合脈沖電源抑制電弧放電，確保 300 小時以上穩定運行，極大降低薄膜缺陷率。

三、全場景覆蓋：賦能多學科創新研究

?? 新材料研發

可制備納米功能薄膜、催化材料與傳感器敏感層，在高熵合金涂層研究中，通過三靶共濺射實現 5 種以上元素的精準配比，突破單靶成分調控局限。

?? 微納電子與光學

用于半導體器件電極制備、ITO 透明導電膜及光學濾光片研發，憑借低缺陷沉積技術，使器件擊穿電壓提升 40%，光學透過率達 95% 以上。

?? 生物醫學領域

定制抗菌涂層與生物傳感器界面，通過 Ag 靶與陶瓷靶協同沉積，實現薄膜生物相容性與抗菌性的優化平衡。

?? 教學與科研

適配物理、材料等學科實驗教學，直觀展示磁控濺射原理，同時滿足前沿課題需求，如非平衡磁場調控下的多孔薄膜制備。

四、設備價值：實驗室的創新基石

作為國產鍍膜設備代表，三靶磁控濺射鍍膜儀以 “精準調控 + 高效靈活” 的核心優勢，打破進口設備技術壟斷。其緊湊設計適配實驗室場景，定制化樣品臺可滿足不同基底尺寸需求，從基礎研究到中試開發賦能，助力科研人員加速實現技術突破與成果轉化。

關鍵詞：氣體流量控制器真空泵測厚儀標準控制系統

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